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4月24日,尼康对外宣布,已对荷兰半导体行业光刻系统供应商阿斯麦(ASML)和德国光学及光电子学设备厂商卡尔蔡司(Carl Zeiss)提起诉讼,指控这两家公司未经授权而使用其光刻技术。

据悉,目前尼康已经在荷兰、德国和日本等地区对阿斯麦和卡尔蔡司提起诉讼。卡尔蔡司是阿斯麦的光学设备供应商。尼康在一份声明中称:“阿斯麦和卡尔蔡司在未经尼康许可的前提下,在阿斯麦的光刻系统中使用尼康的专利技术。”

尼康在诉讼文件中称,要求阿斯麦和卡尔蔡司对未授权使用专利技术而做出赔偿。

阿斯麦总裁兼CEO彼得·温尼克(Peter Wennink)则表示:“尼康的诉讼毫无依据,没有必要,为半导体市场制造了不确定性。”温尼克还称,阿斯麦曾多次试图与尼康谈判,希望能对当前的一份交叉授权协议进行延期。

资料显示,光刻系统被广泛应用于制造半导体,而阿斯麦又主导着半导体光刻机市场。据相关机构数据显示,在高端光刻机市场,阿斯麦的份额高达90%。

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